什么是ITO溅射镀膜
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更新时间：2022-08-27 09:22:14 信息编号：s22rmlfvg17890

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品牌：
其它
产地：
广东
关键词：
ito玻璃镀膜,光伏电池镀膜,连续式镀膜生产线,真空镀膜设备厂家

吴先生

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详情介绍

什么是ITO溅射镀膜

产品别名	连续式磁控镀膜生产线,磁控溅射镀膜设备,真空镀膜设备厂家,首饰镀膜设备	面向地区	广东广州	品牌	其它
产地	广东	产品认证	IOS9001	加工定制	否
计量单位	件	售后服务	店面三包	额定电压	6V

铟锡氧化物( Indium Tin Oxide ,简称ITO) 薄膜是一种用途广泛的透明导电材料,已成熟的应用于电机车挡风玻璃、液晶显示器件、太阳能电池、全息照相和液晶彩色电视等,蓄势待发的应用领域为有机发光二极管显示器(Organic Light-Emitting Diode ,简称OLED) 。从应用角度出发,通常要求ITO 薄膜的成份是In2O3 和SnO2 ,薄膜中铟锡化合物愈少愈好。ITO 薄膜的制备方法很多,如喷涂、蒸发、射频溅射和磁控溅射等。随着液晶显示器技术向高精细化和大型化发展,磁控溅射法备受欢迎。

ITO 薄膜的磁控溅射靶主要分为InSn 合金靶、In2O3-SnO2 陶瓷靶两类。在用合金靶制备ITO 薄膜时,由于溅射过程中作为反应气体的氧会和靶发生很强的电化学反应,靶面覆盖一层化合物,使溅射蚀损区域缩得很小(俗称“靶中毒”) ,以至很难用直流溅射的方法稳定地制备出的ITO 膜。也就是说,采用合金靶磁控溅射时,工艺参数的窗口很窄且极不稳定。陶瓷靶因能抑制溅射过程中氧的选择性溅射,能稳定地将金属铟和锡与氧的反应物按所需的化学配比稳定地成膜,故无中毒现象,工艺窗口宽,稳定性好。但这不等于说陶瓷靶解决了所有的问题,其薄膜光电性能仍然受制于基底温度、溅射电压、氧含量等主要工艺参数的影响,不同工艺制备出的ITO 薄膜的光电性能相差甚远。因此,开展ITO陶瓷靶磁控溅射工艺参数的优化研究很有意义。

设备介绍

ITO/ISI卧式连续镀膜生产线是一款大型平面磁控溅射连续生产设备，采用模块化设计，方便日后扩展升级；配备多组大型磁控阴极，可适用于多种膜系结构的组合；全自动化控制，高稳定性传动系统，可与机械手无缝对接，实现连续稳定的流水线作业；生产节拍快，产量大。

镀膜线适用于镀制ITO、AZO、TCO等透明导电薄膜，以及单质金属Ti、Ag、Cu 、Al、Cr、Ni等材料；主要应用于智能家居面板、显示屏、触摸屏、车载玻璃、光伏电池板等产品。

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